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硅片擴散超聲波清洗機該設(shè)備用于晶圓片擴散、蒸發(fā)、CAV生產(chǎn)前的清洗處理。該機共有六種清洗方式可供選擇，清洗程序為純水清洗、膽堿清洗、冷熱純水沖洗、酸洗（HF）、純水清洗。該設(shè)備用于晶圓片擴散、蒸發(fā)、CAV生產(chǎn)前的清洗處理。該機共有六種清洗方式可供選擇，清洗程序為純水清洗、膽堿清洗、冷熱純水沖洗、酸洗（HF）、純水清洗。其工藝性能指標(biāo)及可靠性*達(dá)到進(jìn)口同類設(shè)備水平，但價格、售后服務(wù)、備品備件的供給

硅片超聲波清洗機在原來的基礎(chǔ)上進(jìn)行改進(jìn)、設(shè)計，功能多，但易操作，主要用于清洗硅片、藍(lán)寶石襯底晶片，晶片、光學(xué)玻璃、光學(xué)鏡片的酸洗等。

硅片超聲波清洗機硅片擴散超聲波清洗機該設(shè)備用于晶圓片擴散、蒸發(fā)、CAV生產(chǎn)前的清洗處理。該機共有六種清洗方式可供選擇，清洗程序為純水清洗、膽堿清洗、冷熱純水沖洗、酸洗（HF）、純水清洗